六氟丁二烯C4F6环保半导体蚀刻高纯

六氟丁二烯C4F6：新一代电子级高纯气体，引领半导体产业升级

一、产品属性

• CAS号： 685-63-2

• 品名及化学式： 六氟-1,3-丁二烯，C4F6

  

• 外观、状态： 无色、无味气体，加压可液化。

• 主要成分： 纯度≥99.999%，杂质含量极低。

• 物理性质： 沸点5.5℃，密度（气态）4.47g/L（25℃，101.3kPa），不溶于水，微溶于有机溶剂。

• 化学性质：有毒性，具有易燃性

二、产品功能

• 主要用途：

• 蚀刻气体：具有高选择性，高蚀刻进度，高蚀刻效率，高光阻，低GWP污染主要用于集成电路替代传统干法蚀刻气体四氟化碳（R14）、八氟环丁烷(RC318)、六氟乙烷(R116)、三氟甲烷(R23)等

• 聚合物单体：是制备多种新型氟树脂、氟塑料、氟橡胶的重要单体材料。

• 解决问题： 解决传统蚀刻气体选择性差、刻蚀速率慢、对环境污染等问题，提高器件性能和生产效率。

• 独特优势：

• 高选择性： 对光刻胶和氮化硅具有极高的选择性，可实现精细的图形转移。

• 高蚀刻速率： 具有快速、均匀的蚀刻速率，缩短生产周期。

• 高纯度： 高纯度保证了刻蚀过程的稳定性和可靠性。

• 环境友好： 全氟化合物，具有极低的全球变暖潜能值（GWP），符合环保要求。

• 技术特点： 采用先进的深冷分离技术和精馏技术制备，确保产品的高纯度和稳定性。

三、产品应用场景

• 具体应用：

• 半导体制造： 用于刻蚀硅、二氧化硅、氮化硅等材料，广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、传感器等器件的制造。

• 平板显示： 用于刻蚀玻璃基板上的薄膜，应用于液晶显示器、有机发光二极管等显示器件的制造。

• 行业案例： 已成功应用于多家全球领先的半导体制造企业，为其产品性能的提升做出了重要贡献。

• 客户群体： 主要面向半导体制造、平板显示等高科技制造企业。

四、产品卖点

• 安全性能： 在推荐的使用条件下，具有良好的安全性。

• 环保性能： GWP极低，符合国际环保法规，有利于企业实现绿色生产。

• 经济效益： 提高产品良率，降低生产成本，缩短产品上市时间，为客户带来显著的经济效益。

• 品质保证： 拥有完善的质量管理体系，产品经过严格的检测，并提供相关认证报告。

五、潜在客户

• 目标客户： 半导体制造企业、平板显示企业、科研院所等。

• 行业背景： 半导体行业是技术密集型行业，对材料纯度和性能要求极高。

• 需求痛点： 客户迫切需要高性能、高可靠性的蚀刻气体，以满足不断升级的工艺需求。

总结

六氟丁二烯C4F6作为新一代电子级高纯气体，具有高选择性、高蚀刻速率、高纯度、环境友好等优点，是半导体制造行业不可或缺的关键材料。其在提高产品性能、降低生产成本、保护环境等方面具有显著优势，是半导体企业实现技术升级和可持续发展的理想选择。

产品优势对比

关键词： 六氟丁二烯C4F6，电子级高纯气体，半导体制造，蚀刻气体，高选择性，高蚀刻速率，环境友好