八氟丙烷(R218)制冷剂清洗剂半导体蚀刻剂

八氟丙烷(R218)制冷剂:引领超低温制冷新时代

产品属性

  • CAS号:76-19-7

  • 别名全氟丙烷化学式:CF3CF2CF3

    八氟丙烷(R218)制冷剂清洗剂半导体蚀刻剂
  • 外观、状态:无色、无味、不可燃的惰性气体

  • 主要成分:纯度≥99.99%

  • 物理性质:沸点-36.7℃,临界温度71.87℃

  • 主要用途:超低温制冷设备,如科研制冷、医用制冷等。R218同时也是超低温配合冷媒的重要组分。在微电子工业中,八氟丙烷用作等离子刻蚀剂和器件表面清洗,由于其化学性质不活泼、热稳定性好,常用于大规模集成电路制造领域的等离子刻蚀和清洗工艺。

产品功能

  • 主要用途:

    • 超低温制冷: 作为特种超低温制冷剂,广泛应用于要求温度极低的科研、医疗、电子等领域。

    • 电子级气体: 与氧气混合可用于半导体器件制造过程中的等离子蚀刻。

  • 解决问题:

    • 提供高效、稳定的超低温制冷解决方案。

    • 满足高纯度、高可靠性的电子级气体需求。

  • 独特优势:

    • 超宽的温度范围,可实现极低的温度。

    • 化学性质稳定,对设备腐蚀性小。

    • 纯度高,杂质含量低,确保实验结果的准确性。

  • 技术特点:

    • 采用先进的分离纯化技术,保证产品的高纯度。

    • 严格按照国际标准进行生产和检测。

产品应用场景

  • 具体应用:

    • 科研领域: 低温物理实验、材料科学研究、生物医学研究等。

    • 医疗领域: 超低温保存生物样本、低温治疗等。

    • 电子工业: 半导体制造、薄膜沉积等。

    • 航空航天: 燃料、推进剂等。

  • 行业案例:

    • 多家知名科研机构和高校采用R218进行超低温实验,取得了显著成果。

    • 某知名半导体企业利用R218进行等离子蚀刻,提高了产品良率。

  • 客户群体:

    • 科研院所、高校

    • 制药企业

    • 电子企业

    • 航空航天企业

产品卖点

  • 安全性能: 无毒、不可燃、化学性质稳定,使用安全。

  • 环保性能: ODP值为0,不破坏臭氧层,符合环保要求。

  • 经济效益: 高效的制冷性能,可降低能耗,提高生产效率。

  • 品质保证: 严格按照国际标准生产,并通过ISO9001认证。

潜在客户

  • 目标客户: 企业(科研院所、制药企业、电子企业等)

  • 行业背景: 需要进行超低温实验、生产高纯度材料、制造电子产品的企业。

  • 需求痛点:

    • 需要一种高效、稳定的超低温制冷剂。

    • 需要一种纯度高、可靠性高的电子级气体。

    • 希望降低生产成本,提高产品质量。

总结

八氟丙烷(R218)作为一种新型的超低温制冷剂,具有卓越的性能和广泛的应用前景。其在科研、医疗、电子等领域展现出巨大的潜力。选择R218,不仅是选择了高品质的产品,更是选择了高效、安全的解决方案。

关键词: 八氟丙烷 R218 超低温制冷剂 科研 医疗 电子 半导体 等离子蚀刻


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