据日经报道，日本信越化学将斥资300亿日元（约2.85亿美元），扩产EUV（极紫外）光刻胶、ArF（氟化氩）光刻胶、以及提升尺寸精度的多层光刻胶，以扩充对半导体关键材料的供应。此次实施扩产的是直江津工厂（新泻县上越市）和台湾云林县工厂。
根据报道，信越化学将会在日本和中国台湾地区兴建工厂，位于中国台湾地区云林工厂将先完成，预计2021年2月开始量产，届时信越化学将得以在中国台湾地区生产可与极紫外光（EUV）光刻技术兼容的光刻胶，以满足台积电等台厂客户的需求。此次台湾工厂不仅把多层光刻胶的产能提高50%，还实现了可以在此新生产EUV光刻胶。
日本的工厂将建在新泻县，预计2022年开始运作。届时中国台湾地区的光刻胶将增产50%，日本的增产20%，同时也会陆续招募新员工。新建的两座工厂除了满足中国台湾地区和日本的需求之外，还能够为中国大陆和韩国提供服务。
除了台系客户外，信越化学扩充产能也将满足韩国、中国大陆和其他市场的客户需求。随着5G设备、数据中心和其他应用的芯片需求上升，光刻胶领域的需求日益旺盛。光刻胶是半导体供应链的关键材料，预计，2019年至2024年，光刻胶市场将增长60%，达到约2500亿日元。
鉴于此，信越化学的竞争对手JSR和Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生产EUV光刻胶，住友化学(Sumitomo Chemical)和富士胶片(Fujifilm)也准备进入该领域
